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一种发光二极管的外延片及其制备方法 

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申请/专利权人:江西兆驰半导体有限公司

摘要:本发明涉及半导体材料的技术领域,公开了一种发光二极管的外延片及其制备方法,所述外延片包括衬底,在所述衬底上依次层叠的缓冲层、非掺杂GaN层、n型半导体层、多量子阱层、电子阻挡层和p型半导体层;其中,所述n型半导体层包括由下至上依次层叠的C‑Si共掺杂含镓氮化物层、第一Si掺杂第二Si掺杂含镓氮化物层、BNMg掺杂AlScN层和SiN含镓氮化物层。实施本发明,可以提供足够的Si掺杂浓度,同时有助于减少线缺陷,阻挡和改变线位错向上扩展,进而使n型半导体层的晶体质量高,LED器件的亮度高,发光效率高。

主权项:1.一种发光二极管的外延片,其特征在于,包括衬底,在所述衬底上依次层叠的缓冲层、非掺杂GaN层、n型半导体层、多量子阱层、电子阻挡层和p型半导体层;其中,所述n型半导体层包括由下至上依次层叠的C-Si共掺杂含镓氮化物层、第一Si掺杂第二Si掺杂含镓氮化物层、BNMg掺杂AlScN层和SiN含镓氮化物层。

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