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申请/专利权人：住友重机械离子科技株式会社
摘要：一种离子注入装置及射束分析仪，能够精确地测定离子束的射束电流分布。射束分析仪50具备：孔隙阵列，具有第1孔隙111和第2孔隙112；杯电极阵列120，相对于孔隙阵列固定地配置；及多个磁铁140。从离子束的行进方向观察时，第2孔隙具有与第1孔隙不同的形状。杯电极阵列具备：第1杯电极121，配置成第1射束部分IB1从第1孔隙通过第1空腔131入射；及第2杯电极122，配置成第2射束部分IB2从第2孔隙通过第2空腔132入射。多个磁铁沿着与离子束的行进方向正交的平面的面内方向对第1空腔和第2空腔施加磁场。
主权项：1.一种离子注入装置，其特征在于，具备：射束扫描仪，利用离子束向与其行进方向正交的扫描方向实施扫描；及射束分析仪，配置于比所述射束扫描仪更靠下游，并且测量由所述射束扫描仪扫描的所述离子束的射束电流分布，所述射束分析仪具备：孔隙阵列，其具备：第1孔隙，限定所述离子束的第1射束部分；及第2孔隙，从所述行进方向观察时，具有与所述第1孔隙不同的形状，并且限定所述离子束的第2射束部分；杯电极阵列，相对于所述孔隙阵列固定地配置，所述杯电极阵列具备：第1杯电极，确定第1空腔并且配置成所述第1射束部分从所述第1孔隙通过所述第1空腔入射；及第2杯电极，确定第2空腔并且配置成所述第2射束部分从所述第2孔隙通过所述第2空腔入射；以及多个磁铁，沿着与所述行进方向正交的平面的面内方向对所述第1空腔和所述第2空腔施加磁场，所述第1孔隙及所述第2孔隙配置成避开未被所述射束扫描仪扫描的所述离子束所照射的所述孔隙阵列上的位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 住友重机械离子科技株式会社 离子注入装置及射束分析仪
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