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申请/专利权人：陕西正泽生物技术有限公司

摘要：本发明涉及色谱分析测定技术领域，具体涉及一种用于放射性药物合成的杂质检测方法。本发明获取多浓度待测样品的色谱图；根据所有色谱图中峰高变化及谱峰间隔，获取每种待分析色谱峰对邻近色谱峰的干扰可能性；进而结合形状特征，获取每种待分析色谱峰的拖尾影响程度；进一步结合峰形偏移的相关性，获取每个色谱图中每个待分析色谱峰的修正权重，从而调整获取所有修正色谱图以进行杂质检测。本发明综合分析多浓度待测样品中每种待分析色谱峰对邻近色谱峰的干扰影响，进一步结合其峰形偏移特征，评估每个待分析色谱峰的拖尾影响程度，从而确定修正权重以调整降低拖尾影响，提高了对放射性药物中的杂质检测效率及准确性。

主权项：1.一种用于放射性药物合成的杂质检测方法，其特征在于，所述方法包括：获取不同浓度下的待测样品的所有色谱图，及每个所述色谱图中的所有色谱峰，将所有所述色谱图中每个相同保留时刻下的所述色谱峰作为一种待分析色谱峰；根据所有所述色谱图中每种所述待分析色谱峰相对邻近色谱峰的峰高变化情况，结合对应色谱峰之间的谱峰间隔，获取每种所述待分析色谱峰对邻近色谱峰的干扰可能性；根据所有所述色谱图中每种所述待分析色谱峰的形状特征，结合所述干扰可能性，获取每种所述待分析色谱峰的拖尾影响程度；在每个所述色谱图中，根据每个所述待分析色谱峰与其他所述色谱图中对应相同保留时刻下所述待分析色谱峰之间，峰形偏移的相关性，结合对应所述拖尾影响程度，获取每个所述色谱图中每个所述待分析色谱峰的修正权重；根据所述修正权重对应调整每个所述色谱图中的每个所述待分析色谱峰，得到所有修正色谱图；综合所有所述修正色谱图进行杂质检测；所述干扰可能性的获取方法包括：根据每个所述色谱图中每种所述待分析色谱峰与下一相邻所述色谱峰的峰高差异，相对所有所述色谱图中对应同种所述待分析色谱峰与下一相邻所述色谱峰的所述峰高差异的偏离程度，获取每种所述待分析色谱峰在每个所述色谱图中的第一干扰参数；根据所述第一干扰参数及所述谱峰间隔获取干扰参数，所述第一干扰参数与所述干扰参数正相关，所述谱峰间隔与所述干扰参数负相关；综合每种所述待分析色谱峰在所有所述色谱图中的所有所述干扰参数，获取每种所述待分析色谱峰对邻近色谱峰的干扰可能性；所述拖尾影响程度的获取方法包括：根据所有所述色谱图中每种所述待分析色谱峰的峰高及峰宽，结合所述待分析色谱峰的对称性，获取每种所述待分析色谱峰的拖尾可能性；根据所述拖尾可能性及所述干扰可能性，获取每种所述待分析色谱峰的拖尾影响程度；所述拖尾可能性及所述干扰可能性均与所述拖尾影响程度正相关；所述拖尾可能性的获取方法包括：在每个所述色谱图中，根据每种所述待分析色谱峰在保留时刻左右两侧的变化趋势一致性，获取每种所述待分析色谱峰在每个所述色谱图中的非对称特征参数；根据每个所述色谱图中每种所述待分析色谱峰的峰高及峰宽，获取每种所述待分析色谱峰在每个所述色谱图中的色谱峰特征参数；所述峰高及峰宽均与所述色谱峰特征参数正相关；根据所述非对称特征参数及所述色谱峰特征参数，获取每种所述待分析色谱峰在每个所述色谱图中的拖尾参数；所述非对称特征参数及所述色谱峰特征参数均与所述拖尾参数正相关；综合每种所述待分析色谱峰在所有所述色谱图中的所述拖尾参数，获取每种所述待分析色谱峰的拖尾可能性；所述修正权重的获取方法包括：根据每种所述待分析色谱峰在保留时刻两侧的半峰面积差异，获取每个所述色谱图中每种所述待分析色谱峰的偏移程度，所述半峰面积差异与所述偏移程度正相关；根据不同所述色谱图中每种所述待分析色谱峰的所述偏移程度的变化情况，结合对应峰高变化情况，获取每个所述色谱图中每种所述待分析色谱峰的偏移置信度；利用所述偏移置信度对对应所述拖尾影响程度加权，将加权结果进行归一化，得到每个所述色谱图中每个所述待分析色谱峰的修正权重。

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