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申请/专利权人：上海赐兴微电子技术有限公司
摘要：本实用新型提供一种扫描式光刻机架构，掩膜台通过联动气浮装置的联动架组构造在硅片工作台的后上方，光源及主镜头分别构造在掩膜台的上方与下方；所述联动架组受驱动后可带动掩膜台与硅片工作台沿Y轴方向同步往复运动；当曝光时候，掩膜台和硅片工作台同时随着气浮台一起进行运动，进而同步调整掩膜台和硅片工作台相对于光源及主镜头的位置关系，进而保证了掩膜台与硅片工作台在位置调整时的同步性；两组气浮扫描台设置在掩膜台与硅片工作台的左右两侧，联动架组的二阶支撑柱贯穿气浮扫描台上的载台I，并且整个架构安装在气囊型减震气浮台的载台II，降低了移动时产生的震动摇摆，保证其抗震性。
主权项：1.一种扫描式光刻机架构，其特征在于，掩膜台3通过联动气浮装置的联动架组构造在硅片工作台1的后上方，光源4及主镜头2分别构造在掩膜台3的上方与下方；所述联动架组受驱动后可带动掩膜台3与硅片工作台1沿Y轴方向同步往复运动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海赐兴微电子技术有限公司 一种扫描式光刻机架构
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