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申请/专利权人：泉意光罩光电科技(济南)有限公司
摘要：本申请提供一种光罩修补方法，涉及半导体加工技术领域。该光罩修补方法，包括：对光罩上的高穿透缺陷进行定位；在高穿透缺陷上添加遮光材料，以使高穿透缺陷变为遮光缺陷；将遮光缺陷移除。该光罩修补方法先将高穿透缺陷变为遮光缺陷，然后再通过移除遮光缺陷去除高穿透缺陷。遮光缺陷的移除较为容易且快速，因此，相比于现有技术的直接对高穿透缺陷进行移除，采用该光罩修补方法能够有效且快速地移除高穿透缺陷。
主权项：1.一种光罩修补方法，其特征在于，包括：对光罩上的高穿透缺陷进行定位；在所述高穿透缺陷上添加遮光材料，以使所述高穿透缺陷变为遮光缺陷；将所述遮光缺陷移除。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 泉意光罩光电科技(济南)有限公司 一种光罩修补方法
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