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申请/专利权人:无锡尚积半导体科技有限公司
摘要:本申请公开了一种多重磁场刻蚀装置,包括工作腔、载台、线圈、第一磁组和至少两层第二磁组,第一磁组和第二磁组均包括多个沿圆周方向间隔设置的永磁铁;线圈用作激发磁场,第一磁组用作约束磁场,第二磁组用作增强磁场;激发磁场促进等离子体生成,约束磁场将电子约束在线圈周围、即便于电子离化气体原子、又能够避免电子被腔壁引走,增强磁场能够提高晶圆附近的等离体子活性、加速晶圆刻蚀;本申请提供的刻蚀装置通过三重磁场配合,能够方便、有效地提高刻蚀效率,并保证刻蚀效果。
主权项:1.一种多重磁场刻蚀装置,其特征在于,包括:工作腔(100),用于为晶圆刻蚀提供空间;载台(200),设于所述工作腔(100)内,用于承接晶圆;线圈(310),设于所述工作腔(100)内、并悬于所述载台(200)上方;第一磁组(320),包括多块永磁铁,多块所述永磁铁围绕所述工作腔(100)并排布置成圈,所述线圈(310)临近所述第一磁组(320)的包围圈、或者至少部分所述线圈(310)处于所述第一磁组(320)的包围圈内;至少两层第二磁组(330),设于所述第一磁组(320)下方;所述第二磁组(330)包括多块永磁铁,多块所述永磁铁围绕所述工作腔(100)并排布置成圈;至少两层所述第二磁组(330)沿竖直方向并列设置;其中,所述线圈(310)用作激发磁场,所述第一磁组(320)用作约束磁场,所述第二磁组(330)用作增强磁场;刻蚀过程中,所述载台(200)携晶圆临近所述第二磁组(330)的包围圈,或者,至少部分晶圆处于所述第二磁组(330)的包围圈内;所述激发磁场能够电离反应气体、生成等离子体;所述约束磁场能够将电子约束在所述线圈(310)附近,从而促进电离反应、并阻止带电粒子向腔壁运动;所述增强磁场能够提高带电粒子的活性,通过增长电子的运动路径、增加粒子的碰撞次数,从而增加腔体内的等离子体浓度。
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权利要求:
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