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申请/专利权人：联芯集成电路制造(厦门)有限公司
摘要：本发明公开一种光致抗蚀剂的涂布制作工艺，其包含首先提供一晶片，一第一喷嘴悬挂至一第一机械手臂，一第二喷嘴悬挂至一第二机械手臂，其中第一喷嘴用于喷洒润湿液，第二喷嘴用于喷洒光致抗蚀剂液，然后进行一光致抗蚀剂的涂布制作工艺，其中光致抗蚀剂的涂布制作工艺包含将第一喷嘴移置晶片的中心的正上方并且开始喷洒润湿液，然后将第一喷嘴向晶片的边缘移动至一预定位置，同时将第二喷嘴移置晶片的中心的正上方并且开始喷洒光致抗蚀剂液至晶片的上表面，接着当光致抗蚀剂液流动至第一喷嘴的正下方前，停止喷洒润湿液，然后将第一喷嘴移出晶片的上方，当光致抗蚀剂液完全覆盖晶片的上表面后，将第二喷嘴移出晶片的上方。
主权项：1.一种光致抗蚀剂的涂布制作工艺，包含：提供晶片旋转台，晶片设置于该晶片旋转台上，第一喷嘴悬挂至第一机械手臂，第二喷嘴悬挂至第二机械手臂，其中该第一喷嘴用于喷洒润湿液，该第二喷嘴用于喷洒光致抗蚀剂液；进行光致抗蚀剂的涂布制作工艺，其中该光致抗蚀剂的涂布制作工艺包含：步骤一：将该第一喷嘴移置该晶片的中心的正上方并且开始喷洒润湿液；步骤二：将该第一喷嘴向该晶片的边缘移动至预定位置，当该第一喷嘴离开该晶片的中心的正上方后，将该第二喷嘴移置晶片的中心的正上方并且开始喷洒光致抗蚀剂液至该晶片的上表面；步骤三：在光致抗蚀剂液流动至该第一喷嘴的正下方之前，关闭该第一喷嘴；步骤四：当光致抗蚀剂液完全覆盖该晶片的上表面后，关闭该第二喷嘴；其中该光致抗蚀剂的涂布制作工艺依步骤一、步骤二、步骤三至步骤四的顺序进行。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 联芯集成电路制造(厦门)有限公司 光致抗蚀剂的涂布制作工艺
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