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基于涡旋干涉的暗场共焦显微测量装置 

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申请/专利权人:哈尔滨工业大学

摘要:本申请公开了一种基于涡旋干涉的暗场共焦显微测量装置,涉及光学精密测量技术领域,涡旋光产生模块用于产生预定阶数的涡旋光,涡旋光干涉模块用于将涡旋光分为参考光和成像光,利用成像光照射待测样品的扫描位置,得到扫描位置的样品反射光,并使参考光和样品反射光进行重合干涉,得到干涉光,干涉光的光斑为花瓣状,旋转解调模块用于对干涉光进行旋转解调,得到扫描位置的振幅和相位信息,从而可表征缺陷的振幅和相位信息,实现相位型缺陷的检测。

主权项:1.一种基于涡旋干涉的暗场共焦显微测量装置,其特征在于,所述基于涡旋干涉的暗场共焦显微测量装置包括:涡旋光产生模块,用于产生预定阶数的涡旋光;涡旋光干涉模块,用于将所述涡旋光分为参考光和成像光,利用所述成像光照射待测样品的扫描位置,得到所述扫描位置的样品反射光,并使所述参考光和所述样品反射光进行重合干涉,得到干涉光;所述待测样品为三维集成电路;所述参考光和所述样品反射光的阶数相反;所述干涉光的光斑为花瓣状;旋转解调模块,用于对所述干涉光进行旋转解调,得到所述扫描位置的振幅和相位信息。

全文数据:

权利要求:

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