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申请/专利权人:安迈特科技(北京)有限公司
摘要:本发明提供了一种镀膜装置及方法。镀膜装置包括:机架;主辊,主辊位于机架的上方,主辊的外周面为待镀件提供支撑;蒸镀组件,蒸镀组件位于主辊的下方,蒸镀组件沿竖直方向高度可调节地设置在机架上,以使蒸镀组件与主辊的距离能够调节来调整施加给待镀件的喷涂量;挡板组件,挡板组件设置在蒸镀组件与主辊之间,挡板组件具有大小可调节的开口,蒸镀组件释放的喷涂介质能够穿过开口施加给待镀件;检测组件,检测组件与主辊间隔设置且检测组件套设在待镀件上,用于检测待镀件的厚度与长度。本发明解决了现有技术中蒸镀装置无法保证镀膜的镀层厚度均匀的问题。
主权项:1.一种镀膜装置,其特征在于,包括:机架10;主辊20,所述主辊20位于所述机架10的上方,所述主辊20的外周面为待镀件100提供支撑;蒸镀组件30,所述蒸镀组件30位于所述主辊20的下方,所述蒸镀组件30沿竖直方向高度可调节地设置在所述机架10上,以使所述蒸镀组件30与所述主辊20的距离能够调节来调整施加给所述待镀件100的喷涂量;挡板组件40,所述挡板组件40设置在所述蒸镀组件30与所述主辊20之间,所述挡板组件40具有大小可调节的开口,所述蒸镀组件30释放的喷涂介质能够穿过所述开口施加给所述待镀件100;检测组件50,所述检测组件50与所述主辊20间隔设置且所述检测组件50套设在所述待镀件100上,用于检测所述待镀件100的厚度与长度。
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