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氧化锆烧结体的制造方法 

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申请/专利权人:可乐丽则武齿科株式会社

摘要:本发明提供氧化锆烧结体的制造方法,其使具有稳定剂的量不同的多个层的氧化锆成形体或氧化锆预烧体在短时间内发生烧结,从而使氧化钇的含有率不同的层之间的条纹不显眼。本发明涉及氧化锆烧结体的制造方法,其具有将氧化锆成形体或氧化锆预烧体进行烧成的烧成工序,氧化锆成形体或氧化锆预烧体具备含有稳定剂的多个层,多个层包含稳定剂的含有率不同的层,烧成工序包括第一升温工序H1、第二升温工序H2和第三升温工序H3的至少三个阶段的升温工序,将H2的升温速度设为HR2,将H3的升温速度设为HR3,HR2超过0℃min且小于50℃min,HR3=5~150℃min,HR3HR2>1,各升温工序中的开始温度在H1中为1000℃以下、在H2中超过1250℃且为1450℃以下、在H3中为1450℃以上且1550℃以下,各升温工序中的到达温度在H1中超过1250℃且为1450℃以下、在H2中为1450℃以上且1550℃以下、在H3中为1500℃以上且1750℃以下。

主权项:1.氧化锆烧结体的制造方法,其具有将氧化锆成形体或氧化锆预烧体进行烧成的烧成工序,所述氧化锆成形体或氧化锆预烧体具备含有稳定剂的多个层,所述多个层包含稳定剂的含有率不同的层,所述烧成工序包括第一升温工序H1、第二升温工序H2和第三升温工序H3的至少3个阶段的升温工序,将第二升温工序H2的升温速度设为HR2,将第三升温工序H3的升温速度设为HR3时,HR2为超过0℃min且小于50℃min,HR3为5℃min以上且150℃min以下,HR3HR21,各升温工序中的开始温度在H1中为1000℃以下、在H2中超过1250℃且为1450℃以下、在H3中为1450℃以上且1550℃以下,各升温工序中的到达温度在H1中超过1250℃且为1450℃以下、在H2中为1450℃以上且1550℃以下、在H3中为1500℃以上且1750℃以下。

全文数据:

权利要求:

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