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申请/专利权人：傲迪特半导体(南京)有限公司
摘要：本实用新型涉及半导体清洗技术领域，尤其涉及一种半导体零部件加工用清洗装置；技术问题：传统的半导体零件清洗装置在清洗工件时，溶液内部的重金属杂质不及时去除可能会导致溶液内重金属含量增高；技术方案：一种半导体零部件加工用清洗装置，包括有处理箱、放置组件、调节组件、清洗组件、磁吸组件、导流组件、支撑组件和排液管；本实用新型相较于传统的半导体零件清洗装置在清洗工件时，溶液内部的重金属杂质不及时去除可能会导致溶液内重金属含量增高，该清洗装置使用电磁结构对溶液内进行吸附，通过搅动液体防止重金属杂质沉积在装置底部，从而对液体内的重金属杂质进行分离，防止含有重金属杂质的清洗液排放对环境造成污染。
主权项：1.一种半导体零部件加工用清洗装置，包括有处理箱（1）；其特征在于：还包括有放置组件（2）、调节组件（3）、清洗组件（4）、磁吸组件（5）、导流组件（6）、支撑组件（7）和排液管（8）；处理箱（1）的内侧设置有具有放置作用的放置组件（2），处理箱（1）的内侧设置有具有调节作用的调节组件（3），处理箱（1）的一侧设置有具有清洗作用的清洗组件（4），处理箱（1）的内侧设置有具有磁吸作用的磁吸组件（5），处理箱（1）的内侧设置有具有导流作用的导流组件（6），处理箱（1）的下方设置有具有支撑作用的支撑组件（7），处理箱（1）的一侧设置有排液管（8）。
全文数据：
权利要求：
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