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申请/专利权人：长沙韶光芯材科技有限公司;韶光芯材(浏阳)科技有限公司

摘要：本发明公开了一种基于模型配准的光刻胶表面平整度检测方法，所述方法包括：S1：利用激光雷达对光刻胶表面进行扫描，采集雷达数据并去噪，并构建点云模型；S2：将光刻胶表面模型与点云模型进行方向对齐；S3：计算光刻胶表面模型和点云模型的精确配准参数；S4：在点云模型中，计算点云模型的偏离度；S5：基于步骤S3得到的精确配准参数和步骤S4得到的点云模型的偏离度，评估光刻胶表面模型的平整度。本发明对光刻胶表面模型和点云模型进行多级配准，提高配准精确度；通过计算点云模型的偏离度，实现光刻胶表面的平整度检测，提高掩膜版产品质量。

主权项：1.一种基于模型配准的光刻胶表面平整度检测方法，其特征在于，所述方法包括：S1：利用激光雷达对光刻胶表面进行扫描，采集雷达数据并去噪，并构建点云模型；S2：将光刻胶表面模型与点云模型进行方向对齐；S3：计算光刻胶表面模型和点云模型的精确配准参数；所述步骤S3包括：S31：在光刻胶表面模型和点云模型中，选取对应的参考点；基于参考点，计算光刻胶表面模型到点云模型的偏差： ；其中，表示光刻胶表面模型到点云模型的偏差，表示光刻胶表面模型中的第个参考点坐标，表示点云模型中的第个参考点坐标，表示光刻胶表面模型到点云模型的旋转矩阵，表示光刻胶表面模型到点云模型的平移矩阵；S32：基于偏差最小原则，利用最小二乘法，求解光刻胶表面模型到点云模型的旋转矩阵和平移矩阵；S33：将点云模型中的第个参考点的坐标更新为；基于更新的，和，调用步骤S31，计算光刻胶表面模型到点云模型的偏差；S34：重复步骤S32和S33，直到小于模型偏差阈值，此时得到光刻胶表面模型到点云模型的最佳旋转矩阵和最佳平移矩阵；将最佳旋转矩阵和最佳平移矩阵记作光刻胶表面模型和点云模型的精确配准参数；S4：在点云模型中，计算点云模型的偏离度；所述步骤S4包括：S41：在点云模型中，确定偏离度计算的参考平面；S42：计算点云模型表面的点与参考平面的距离平均值，表示点云模型的偏离度；S5：基于步骤S3得到的精确配准参数和步骤S4得到的点云模型的偏离度，评估光刻胶表面模型的平整度；光刻胶表面模型的平整度表示为： ；其中，表示光刻胶表面模型的平整度，表示点云模型的偏离度。

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