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预热环及气相沉积设备 

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申请/专利权人:华为技术有限公司

摘要:本申请提供一种预热环及气相沉积设备。气相沉积设备包括基座和框体。框体设有反应腔室。基座位于反应腔室内,且将反应腔室分隔为第一腔室和第二腔室。框体设有第一进气通道,第一进气通道连通第一腔室和框体的外部。基座和框体围出第一连接通道。第一连接通道位于基座和第一进气通道之间。第一连接通道连通第一腔室和第二腔室。第一连接通道包括出气段。出气段连通第一腔室。出气段的中心轴与第一进气通道的中心轴呈锐角设置或者方向相同,出气段的出口朝向远离第一进气通道的一侧。环境气体进入第一腔室时,环境气体的流向与反应气体的流向之间夹角较小,环境气体对反应气体的流向影响较小,反应气体流动较平稳,沉积的薄膜边缘的成膜质量较佳。

主权项:1.一种气相沉积设备1000,其特征在于,包括基座100和框体700,所述框体700设有反应腔室310,所述基座100位于所述反应腔室310内,且将反应腔室310分隔为第一腔室301和第二腔室302,所述框体700设有第一进气通道303,所述第一进气通道303连通所述第一腔室301和所述框体700的外部,所述基座100和所述框体700围出第一连接通道900,所述第一连接通道900位于所述基座100和所述第一进气通道303之间,所述第一连接通道900连通所述第一腔室301和所述第二腔室302;所述第一连接通道900包括出气段940,所述出气段940连通所述第一腔室301,所述出气段940的中心轴与所述第一进气通道303的中心轴呈锐角设置或者方向相同,所述出气段940的出口朝向远离所述第一进气通道303的一侧。

全文数据:

权利要求:

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