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申请/专利权人：日东电工株式会社
摘要：本发明提供能够抑制起因于孔痕迹的外观不良的发生的圆偏振片的制造方法。该制造方法具备工序Sa、工序Sb、工序Sc以及工序Sd。在工序Sa中，准备依次具备第一保护膜11、第一起偏器保护层12、起偏器13、及具有贯通孔14a的第二保护膜14的偏振膜层叠体10的卷绕物。在工序Sb中，一边将偏振膜层叠体10从卷绕物抽出，一边使从起偏器13中的贯通孔14a露出的部位接触处理液，由此进行脱色，形成非偏振部。在工序Sc中，将第一保护膜11及第二保护膜14从偏振膜层叠体10剥离。在工序Sd中，在第一起偏器保护层12的与起偏器13侧相反侧层叠相位差层。
主权项：1.一种圆偏振片的制造方法，其具备：工序Sa，其准备依次具备第一保护膜、第一起偏器保护层、起偏器及具有贯通孔的第二保护膜的偏振膜层叠体的卷绕物；工序Sb，其一边将所述偏振膜层叠体从所述卷绕物抽出，一边使从所述起偏器中的所述贯通孔露出的部位接触处理液，由此进行脱色，形成非偏振部；工序Sc，其将所述第一保护膜及所述第二保护膜从所述偏振膜层叠体剥离；以及工序Sd，其在所述第一起偏器保护层的与所述起偏器侧相反侧层叠相位差层。
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