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申请/专利权人:广西自贸区睿显科技有限公司
摘要:本发明提供了一种OLED显示结构及制作方法,包括位于底部的CMOSIC层;CMOSIC层上铺设反射层,反射层包括由下向上叠置的反光膜层和反光介质层;反光膜层的底面贴覆CMOSIC层,反光介质层顶面铺设阳极层;阳极层为Al和ITO材质经过剥离存在间隙Pitch;阳极层上铺设发光层,发光层包括由下向上叠置的空穴注入层、空穴传输层、EML发光叠层、电子传输层和电子注入层;空穴注入层的底面贴覆阳极层,电子注入层上铺设阴极层,阴极层包括由下向上叠置的阴极材料层和氧化铝膜层;氧化铝膜层的顶面覆盖棱镜Lens层;棱镜Lens层上覆盖上扩散层,上扩散层上覆盖彩膜层;彩膜层上覆盖光学膜层。
主权项:1.一种OLED显示结构,包括位于底部的CMOSIC层;其特征在于,所述CMOSIC层上铺设反射层,所述反射层包括由下向上叠置的反光膜层和反光介质层;所述反光膜层的底面贴覆所述CMOSIC层,所述反光介质层顶面铺设阳极层;所述阳极层为Al和ITO材质经过剥离存在间隙Pitch;所述阳极层上铺设发光层,所述发光层包括由下向上叠置的空穴注入层、空穴传输层、EML发光叠层、电子传输层和电子注入层;所述空穴注入层的底面贴覆所述阳极层,所述电子注入层上铺设阴极层,所述阴极层包括由下向上叠置的阴极材料层和氧化铝膜层;所述氧化铝膜层的顶面覆盖棱镜Lens层;所述棱镜Lens层上覆盖上扩散层,所述上扩散层上覆盖彩膜层,所述彩膜层依次由R色彩膜像素点、B色彩膜像素点、G色彩膜像素点间隔排布形成;所述彩膜层上覆盖光学膜层。
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