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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：涂布处理方法包括：分别单独地获取多个基板的表面图像，在所述多个基板的表面分别具有通过供给互不相同的喷出量的处理液而形成的互不相同的覆膜；通过对多个基板的表面图像分别进行极坐标变换，来获得多个极坐标变换图像；将多个极坐标变换图像中包含的一个以上的极坐标变换图像以与用于确定向被拍摄了该图像的基板喷出的处理液的喷出量的信息进行了对应的状态显示于画面；以及基于用户针对画面的显示内容的指示，来决定在形成处理液的覆膜时向基板喷出的所述处理液的喷出量。
主权项：1.一种涂布处理方法，包括：分别单独地获取多个基板的表面图像，在所述多个基板的表面分别具有通过供给互不相同的喷出量的处理液而形成的互不相同的覆膜；通过对所述多个基板的表面图像分别进行极坐标变换，来获得多个极坐标变换图像；将所述多个极坐标变换图像中包含的一个以上的极坐标变换图像以与用于确定向被拍摄了该图像的基板喷出的所述处理液的喷出量的信息进行了对应的状态显示于画面；以及基于用户针对所述画面的显示内容的指示，来决定在形成所述处理液的覆膜时向所述基板喷出的所述处理液的喷出量。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 涂布处理方法、存储介质以及涂布处理装置
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