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申请/专利权人:株式会社斯库林集团
摘要:本发明的问题在于在载台上表面以高吸附力保持矩形状基板并稳定进行处理液的涂布。本发明包括:载台,在上表面具有能供矩形状基板载置的基板载置区域;喷嘴,具有喷出处理液的狭缝状喷出口;喷嘴移动部,使喷嘴在载台上方移动;第一负压产生部,自在基板载置区域的中央部由载置于载台的基板的下表面与载台夹持的空间排出第一气体而产生第一负压;凹部,以在自上方俯视时包围空间的方式设置于基板载置区域的周缘部且呈环状;以及密封构件,为设置于凹部内的弹性体且呈环状,并且密封构件的上端在基板载置前自载台上表面露出,另一方面,在基板载置于基板载置区域并且受到第一负压的状态下,与基板下表面密合,同时朝向凹部后退而将空间密闭。
主权项:1.一种基板处理装置,其特征在于,包括:载台,在上表面具有能够供矩形状的基板载置的基板载置区域;喷嘴,具有喷出处理液的狭缝状的喷出口;喷嘴移动部,使所述喷嘴在所述载台的上方移动;第一负压产生部,自在所述基板载置区域的中央部由载置于所述载台的所述基板的下表面与所述载台夹持的空间排出第一气体而产生第一负压;凹部,以在自上方俯视时包围所述空间的方式设置于所述基板载置区域的周缘部且呈环状;密封构件,为设置于所述凹部内的弹性体且呈环状;以及第二负压产生部,在所述密封构件的上端与所述基板的下表面密合的状态下,自所述凹部的内部排出第二气体而产生第二负压,并且在所述基板的有效区形成有多个元件,另一方面,在包围所述有效区的非有效区未形成所述元件,所述第一负压产生部对所述有效区赋予所述第一负压,所述凹部与所述非有效区相向设置,所述密封构件的上端在所述基板载置前自所述载台的上表面露出,另一方面,在所述基板载置于所述基板载置区域并且受到所述第一负压的状态下,与所述基板的下表面密合,同时朝向所述凹部后退而将所述空间密闭,在所述基板的所述非有效区抵接于所述载台的所述基板载置区域的周缘部中的、对应所述凹部的中央部侧的部位及对应所述凹部的周端侧的部位两者的状态下,将所述基板的所述有效区及所述非有效区吸附保持于所述载台的所述基板载置区域。
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百度查询: 株式会社斯库林集团 基板处理装置及基板处理方法
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