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申请/专利权人:无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司
摘要:本发明属于半导体技术领域,公开了一种进气装置及刻蚀设备,进气装置包括进气块、第一阀、第二阀、分气块和喷嘴,进气块包括总通道以及与总通道连通的第一分支通道和至少两个第二分支通道,第一阀与总通道对应设置,第二阀与第二分支通道一一对应设置;分气块包括至少两个第一分气通道和与第一分气通道一一对应连通的第二分气通道,所有的第一分气通道均与第一分支通道连通;第二分气通道与第二分支通道一一对应连通;喷嘴包括中心通道以及至少一个环形通道,中心通道与其中一个第二分气通道连通,环形通道与其余的第二分气通道一一对应连通。本发明提供的进气装置,可以使注入刻蚀腔体内的工艺气体电离产生的等离子体均匀作用于晶片。
主权项:1.一种进气装置,其特征在于,包括:进气块(100),包括总通道(101)、第一分支通道(102)和至少两个第二分支通道(103),所述第一分支通道(102)的进气口和所述第二分支通道(103)的进气口均与所述总通道(101)的出气口连通;第一阀(210),与所述总通道(101)对应设置,用于通断所述总通道(101);第二阀(220),设有至少两个且与所述第二分支通道(103)一一对应设置,用于通断对应的所述第二分支通道(103);分气块(300),包括至少两个第一分气通道(301)和至少两个第二分气通道(302),所有的所述第一分气通道(301)的进气口均与所述第一分支通道(102)连通;所述第一分气通道(301)的出气口与所述第二分气通道(302)一一对应连通,且所述第二分气通道(302)的进气口与所述第二分支通道(103)的出气口一一对应连通;喷嘴(400),包括中心通道(401)以及环绕所述中心通道(401)依次设置的至少一个环形通道(402);其中,所述中心通道(401)与其中一个所述第二分气通道(302)的出气口连通,所述环形通道(402)与其余的所述第二分气通道(302)的出气口一一对应连通。
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