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申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
摘要：本申请涉及光致抗蚀剂组合物、包括光致抗蚀剂组合物的经涂布衬底和形成电子装置的方法。一种光致抗蚀剂组合物，其包括酸敏性聚合物和具有式I的光酸产生剂化合物：其中，EWG、Y、R和M+与说明书中所描述相同。
主权项：1.一种具有如下式III的光致抗蚀剂组合物： 其中：X5和X6各自独立地为选自CCN2、CNO22、CCOR272、CCO2R282、CSO2R292和CRf2的吸电子基团，其中，R27、R28和R29各自独立地为C1-30脂族有机基团、C6-30芳族有机基团或C1-30杂芳族有机基团，以及其中，Rf为C1-C30氟烷基基团；Z1和Z2各自独立地为氢、直链或分支链C1-50烷基、单环或多环C3-50环烷基、单环或多环C3-50杂环烷基、单环或多环C6-50芳基、单环或多环C5-20杂芳基或其组合，其中，基团Z1和Z2任选地彼此连接以形成环；Y为单键或键联基团；R为氢、直链或分支链C1-20烷基、直链或分支链C2-20烯基、单环或多环C3-20环烷基、单环或多环C3-20环烯基、单环或多环C3-20杂环烷基、单环或多环C3-20杂环烯基、单环或多环C6-20芳基、或者单环或多环C1-20杂芳基，除了氢以外的其中的每一个经取代或未经取代；以及M+为有机阳离子。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光致抗蚀剂组合物、包括光致抗蚀剂组合物的经涂布衬底和形成电子装置的方法
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