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申请/专利权人：皮考逊公司
摘要：一种衬底处理装置，包括：反应室，用于处理衬底；光子源，用于向所述反应室提供来自所述反应室的顶侧的光子；衬底支撑件，用于支撑所述衬底；化学品入口，用于为所述反应室提供反应性化学品；以及化学品出口，用于从所述反应室排出气体，所述化学品出口包括将所述反应室与周围空间分离的表面。
主权项：1.一种衬底处理装置，包括：反应室，用于处理可卷曲衬底或者由衬底支撑件支撑的衬底；光子源，用于为所述反应室提供来自所述反应室的顶侧的光子；化学品入口，用于为所述反应室提供反应性化学品；外室，包围所述反应室从而限定中间空间；中间空间入口，用于提供进入所述中间空间的气流；以及化学品出口，用于从所述反应室排出气体，所述化学品出口将所述反应室与所述中间空间分离。
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