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申请/专利权人：成都智芯雷通微系统技术有限公司
摘要：本发明涉及阵列天线综合技术领域，公开了一种平面稀布阵列天线方向图拟合的方法和系统。包括以下步骤：获取每一个天线单元在每一个扫描角度下的激励相位分布矩阵和激励幅度；根据激励相位分布矩阵和激励幅度，获取平面稀布阵列天线在每一个扫描角度下的实际增益；根据实际增益，获取平面稀布阵列天线的阵列关键参数；半功率波束宽度根据平面稀布阵列天线在每一个扫描角度下的实际增益，绘制每一个扫描角度下的方向图；输出阵列关键数据。可以快速拟合出所设扫描角度的收发和差方向图，提高阵列天线前期设计评估的效率，且拟合结果以实际增益形式给出，可以有效评估天线实际增益情况。
主权项：1.一种平面稀布阵列天线方向图拟合的方法，其特征在于，包括以下步骤：获取每一个天线单元在每一个扫描角度下的激励相位分布矩阵和激励幅度；根据每一个天线单元在每一个扫描角度下的激励相位分布矩阵和激励幅度，获取所述平面稀布阵列天线在每一个扫描角度下的实际增益；根据所述平面稀布阵列天线在每一个扫描角度下的实际增益，获取所述平面稀布阵列天线的阵列关键参数；所述阵列关键参数包括：最大实际增益、副瓣电平值、半功率波束宽度、扫描下降数据和在指定扫描角度下的差波束零深；根据所述平面稀布阵列天线在每一个扫描角度下的实际增益，绘制每一个扫描角度下的方向图；输出所述阵列关键数据。
全文数据：
权利要求：
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