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申请/专利权人：润晶(合肥)光电材料有限公司
摘要：本发明提供一种复合铜膜用蚀刻液组合物，涉及蚀刻液技术领域。所述复合铜膜用蚀刻液组合物由双氧水、氢氟酸、磷酸二氢钠、络合剂、丁二酸二乙酯、乙内酰脲、硫酸氢钾、缓蚀剂、亚氨基二乙酸、有机醇组成。本发明克服了现有技术的不足，能够有效提高刻蚀液对铜及其合金的选择性刻蚀能力，同时减少对相邻金属层的侵蚀，实现对刻蚀速率的精确控制，确保刻蚀线条的平整度和精度，综合提升对铜多层膜的蚀刻效果。
主权项：1.一种复合铜膜用蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻液组合物由以下质量百分数的原料组成：双氧水20.0%-22.0%、氢氟酸0.08%-0.10%、磷酸二氢钠0.06%-0.08%、络合剂0.21%-0.30%、丁二酸二乙酯0.04%-0.08%、乙内酰脲0.02%-0.06%、硫酸氢钾0.43%-0.45%、缓蚀剂0.41%-0.45%、亚氨基二乙酸1.2%-1.5%、有机醇3.7%-4.3%，其余为水；所述有机醇为丁二醇、三乙二醇按照质量比0.7-1.0∶3.0-3.3混合得到；所述缓蚀剂为3-氨基-1,2,4-三氮唑；所述络合剂为乙二胺四乙酸二钠、二乙烯三胺五甲叉膦酸盐质量比2-6∶1混合得到。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 润晶(合肥)光电材料有限公司 一种复合铜膜用蚀刻液组合物
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