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一种可受热均匀的氧化亚硅生产装置 

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申请/专利权人:四川孚孚新材料科技有限公司

摘要:本实用新型提供了一种可受热均匀的氧化亚硅生产装置,包括真空室,所述真空室中包括支架,所述支架包括第一支架、位于第一支架下方的第二支架,所述第一支架中设有析出基体,所述第二支架中设有原料容器,所述真空室内还包括位于支架侧方的固定柱,所述固定柱上设有水平朝向支架上方的支撑板,所述支撑板的下端连接有升降驱动机构,所述升降驱动机构下端设有从支撑板向下直线延伸的操作杆,所述操作杆的底端设有翻料机构,所述翻料机构位于原料容器中,所述翻料机构的上方设有位于第一支架内的刮削机构。

主权项:1.一种可受热均匀的氧化亚硅生产装置,包括真空室,所述真空室中包括支架(1),所述支架(1)包括第一支架(11)、位于第一支架(11)下方的第二支架(12),所述第一支架(11)中设有析出基体,所述第二支架(12)中设有原料容器,其特征在于,所述真空室内还包括位于支架(1)侧方的固定柱(2),所述固定柱(2)上设有水平朝向支架(1)上方的支撑板(3),所述支撑板(3)的下端连接有升降驱动机构(5),所述升降驱动机构(5)下端设有从支撑板(3)向下直线延伸的操作杆(4),所述操作杆(4)的底端设有翻料机构(8),所述翻料机构(8)位于原料容器中,所述翻料机构(8)的上方设有位于第一支架(11)内的刮削机构(9)。

全文数据:

权利要求:

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