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摘要：本发明提供一种基于光谱共聚焦的膜厚测量方法及设备。应用于高精度测量技术领域。该方法包括：预先获取光谱共聚焦系统的出射光调制系数；利用光谱仪采集聚焦于扁平件上下表面的反射光光谱，得到在入射光下携带位置信息的实时特征光谱和实时入射光调制光源光谱；根据所述出射光调制系数和所述入射光调制光源光谱计算光源参考光谱；利用所述光源参考光谱对所述特征光谱进行解调制，得到标准反射光光谱；根据所述标准反射光光谱计算扁平件厚度。
主权项：1.一种基于光谱共聚焦的膜厚测量方法，其特征在于，包括：预先获取光谱共聚焦系统的出射光调制系数；利用光谱仪采集聚焦于扁平件上下表面的反射光光谱，得到在入射光下携带位置信息的实时特征光谱和实时入射光调制光源光谱；根据所述出射光调制系数和所述入射光调制光源光谱计算光源参考光谱；利用所述光源参考光谱对所述特征光谱进行解调制，得到标准反射光光谱；根据所述标准反射光光谱计算扁平件厚度。
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百度查询： 北京特思迪半导体设备有限公司 基于光谱共聚焦的膜厚测量方法及设备
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