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一种超大尺寸玻璃基板面形修正方法以及加工装置 

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摘要:本发明公开了一种超大尺寸玻璃基板面形修正方法以及加工装置,其中,所述超大尺寸玻璃基板面形修正方法包括以下步骤:对待加工件进行整体研磨和或局部抛光,得到所需工件,所需工件的PV值≤10μm,且所需工件的TTV值≤10μm。本发明提供的超大尺寸玻璃基板面形修正方法,通过整体研磨和局部抛光,达到修正后的超大尺寸玻璃基面,PV值≤10μm、TTV值≤10μm的效果,并且通过自重研磨,解决了磨削工序没有理想基准面的难题,而且对待加工件的要求低,对待加工件没有面形精度的要求。

主权项:1.一种超大尺寸玻璃基板面形修正方法,其特征在于,所述超大尺寸玻璃基板面形修正方法包括以下步骤:对待加工件进行整体研磨和或局部抛光,得到所需工件,所需工件的PV值≤10μm,且所需工件的TTV值≤10μm。

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