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摘要：各方面涉及生成半导体制造设备的高准确度状态预测结果。用于半导体制造设备的状态预测设备包括：数据获取单元，用于获取第一处理腔室的第一操作数据和第二处理腔室的第二操作数据；特征管理单元，用于生成第一特征图和第二特征图；相关性计算单元，用于计算归一化互相关结果，该归一化互相关结果指示目标特征在第一特征图和第二特征图之间的均匀性水平；排名单元，用于基于归一化互相关结果对目标特征进行排名，并且选择达到排名阈值的目标特征子集；以及状态预测单元，用于基于目标特征子集来生成状态预测结果，该状态预测结果表征第二处理腔室相对于第一处理腔室的性能差异。
主权项：1.一种用于半导体制造设备的状态预测设备，所述状态预测设备包括：数据获取单元，被配置为：获取第一半导体制造设备的达到操作阈值的第一处理腔室的第一操作数据集，以及获取第二半导体制造设备的未能达到所述操作阈值的第二处理腔室的第二操作数据集；特征管理单元，被配置为：基于所述第一操作数据集来生成第一目标特征的第一特征图，以及基于所述第二操作数据集来生成所述第一目标特征的第二特征图；相关性计算单元，被配置为：计算归一化互相关结果，所述归一化互相关结果指示所述第一目标特征在所述第一特征图和所述第二特征图之间的均匀性水平；排名单元，被配置为：基于所述归一化互相关结果，向所述第一目标特征分配排名，所述排名指示所述第一目标特征相对于目标特征集合关于处理腔室状态预测的相关性，以及从所述目标特征集合中选择达到排名阈值的目标特征子集；以及状态预测单元，被配置为：基于所述目标特征子集来生成状态预测结果，所述状态预测结果表征所述第二处理腔室相对于所述第一处理腔室的性能差异。
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百度查询： 株式会社日立高新技术 状态预测设备、状态预测方法和状态预测系统
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