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摘要：本发明的等离子体处理装置的清洁方法包括：在设置于腔室的内部的载置台载置产品基片，对上述产品基片进行等离子体处理的步骤；和将具有比上述产品基片小的直径的第一仿真基片载置在上述载置台，在上述腔室的内部生成等离子体来进行清洁上述载置台的第一干式清洁的步骤。
主权项：1.一种等离子体处理装置的清洁方法，其特征在于，包括：步骤a，在设置于腔室的内部的载置台载置产品基片，对所述产品基片进行等离子体处理；和步骤b，将具有比所述产品基片小的直径的第一仿真基片载置在所述载置台，在所述腔室的内部生成等离子体来进行清洁所述载置台的第一干式清洁。
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百度查询： 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置的清洁方法
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