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摘要：本实用新型涉及一种改善镭射印字偏移的辅助定位机构，涉及半导体生产技术领域，包括承载平台，承载平台上设置有若干个用于放置塑封体的放置区，每个放置区内均设置有用于对塑封体进行真空吸附的真空吸附开口。本申请通过在承载平台上设置有若干个放置区，使得能够将塑封体放置在放置区的内部，能够实现对多组塑封体进行同时印字处理，保证塑封体的产能，同时在每个放置区上均设置有用于对塑封体进行真空吸附的真空吸附开口，使得能够对塑封体的底部进行吸附，在对塑封体进行印字处理时，保证塑封体的位置限定，以及能够解决在印字处理时，芯片产生翘曲度，影响成品美观性的问题。
主权项：1.一种改善镭射印字偏移的辅助定位机构，包括承载平台1，其特征在于：所述承载平台1上设置有若干个用于放置塑封体3的放置区，每个放置区内均设置有用于对塑封体3进行真空吸附的真空吸附开口2。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 安徽丰芯半导体有限公司 一种改善镭射印字偏移的辅助定位机构
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