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摘要:本实用新型公开了一种皮革表面抛光处理装置,包括底座,所述底座的上端左侧固定安装有两个均固定安装有一个固定板,所述调节组件的右部固定安装有压辊,所述第一气缸的输出端活动连接有抛光辊,所述底座的上端活动连接有皮革本体,所述推动组件的下端固定安装有第一磨砂层,所述底座的上端右侧固定安装有第二磨砂层,旨在解决皮革移位降低抛光质量的问题。其技术方案要点是:一种皮革表面抛光处理装置。本实用新型通过第一磨砂层配合第二磨砂层与皮革本体表面的接触能够形成一定的摩擦力和支撑力,使得皮革在抛光过程中保持固定的位置和形状,提高了皮革加工的精度和稳定性,进而保障皮革本体的整体抛光质量。
主权项:1.一种皮革表面抛光处理装置,包括底座1,其特征在于:所述底座1的上端左侧固定安装有两个均固定安装有一个固定板2,两个所述固定板2的相对面上部共同活动连接有收卷辊3,两个所述固定板2的相对面下部共同设置有调节组件4,所述调节组件4的右部固定安装有压辊5,所述底座1的上的中侧固定安装有支架6,所述支架6的上端固定安装有第一气缸7,所述第一气缸7的输出端活动连接有抛光辊8,所述底座1的上端活动连接有皮革本体9,所述皮革本体9的左部和收卷辊3相接触,所述皮革本体9位于压辊5和抛光辊8的下方,所述底座1的上端右侧固定安装有支撑架10,所述支撑架10的上端设置有推动组件11,所述推动组件11的下端固定安装有第一磨砂层12,所述底座1的上端右侧固定安装有第二磨砂层13,所述第一磨砂层12的上表面和底座1的表面处在同一水平面上。
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