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摘要：本申请公开了检测区域形成方法、晶粒表面检测方法和晶粒表面热点判断方法。检测区域形成方法为在集成电路版图上选择表征区域并由各表征区域形成检测区域；其中，表征区域用于表征具有相似结构的局部区域，局部区域的尺寸在0.5微米至50微米范围内。晶粒表面检测方法使用上述检测区域形成方法形成的检测区域对晶粒表面进行形貎检测。晶粒表面热点判断方法依据形貎检测的结果判断是否存在热点。采用上述方法，相较于现有技术，具有更高的检测压缩比，更有利于在产线上普及应用分辨率高的检测手段。
主权项：1.检测区域形成方法，其用于确定对经过CMP加工后的晶粒进行表面检测时的检测区域，其特征是，在集成电路版图上选择表征区域并由各表征区域形成检测区域；所述表征区域用于表征具有相似结构的局部区域，所述局部区域X轴和Y轴的尺寸在0.5微米至50微米范围内。
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百度查询： 厦门大学 检测区域形成方法、晶粒表面检测方法和晶粒表面热点判断方法
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