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摘要:本实用新型公开了半导体加工用氮气柜,包括氮气柜、储物承板、滑槽和隔板,所述储物承板活动连接在氮气柜的内壁,所述滑槽开设在储物承板顶部的前侧和后侧,所述隔板滑动连接在滑槽的内壁,所述隔板内侧的前侧的后侧均固定连接有L块,所述L块的内侧固定连接有滑动板。本实用新型通过设置滑动板、滑动块、吸盘、保护组件和定位组件,能够有效的使滑动板和滑动块将吸盘调节至合适位置,通过定位组件对滑动块进行定位,随后通过吸盘对半导体进行吸附限位,解决了由于未设置保护结构,通过螺栓调节隔板位置对半导体进行限位时,使用者无法精准的控制隔板的限位力度,会使隔板对半导体限位力度过大导致损坏的问题。
主权项:1.半导体加工用氮气柜,包括氮气柜1、储物承板2、滑槽3和隔板4,其特征在于:所述储物承板2活动连接在氮气柜1的内壁,所述滑槽3开设在储物承板2顶部的前侧和后侧,所述隔板4滑动连接在滑槽3的内壁,所述隔板4内侧的前侧的后侧均固定连接有L块5,所述L块5的内侧固定连接有滑动板6,所述滑动板6的内壁滑动连接有滑动块7,所述滑动块7的数量设置有三组,所述滑动块7的底部设置有吸盘8,所述滑动块7的底部固定连接有保护组件9,所述滑动块7的内侧固定安装有定位组件10。
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