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摘要：本发明涉及衬底处理装置、加热器、存储介质及衬底处理方法。缩短处理炉内的温度稳定时间。解决手段为具有：保持衬底的衬底保持件；处理室，对保持于衬底保持件的衬底进行处理；第一加热器，从处理室外加热处理室内；和第二加热器，以位于衬底保持件内的方式设置，并从衬底的背面侧加热衬底，第二加热器具有支柱部；环状部，其连接于支柱部，形成为直径比衬底的直径小的圆弧状；一对连接部，其将环状部的各个端部连接于支柱部，和设置于环状部的内部的发热体。
主权项：1.一种衬底处理装置，具有：保持晶片的晶片保持件；直立的处理容器，对保持于所述晶片保持件的所述晶片进行处理；盖部，封堵所述处理容器的下方开口；第一加热器，从所述处理容器外加热所述处理容器内；隔热部，与所述晶片保持件分别构成，所述隔热部设于所述处理容器内的所述盖部侧；和第二加热器，以面向至少一个被保持的所述晶片的方式设置于所述隔热部的上方，并以相对于所述晶片的直径而言15～35的位置为中心进行加热，所述第二加热器具有：贯穿所述盖部及隔热部的支柱部；环状部，其连接于所述支柱部，沿着中心位于所述晶片或所述处理容器的中央的圆周而形成为圆弧形状；连接部，其将所述环状部连接于所述支柱部；和设置于所述环状部的内部的发热体，所述环状部被设置成与被保持在所述晶片保持件的所述晶片平行，所述发热体是将比以所述环状部的直径形成的圆的圆周长度更长的线材形成为线圈状而构成，在所述支柱部和所述连接部，封入有用于对所述发热体进行供电的一对引线，所述引线的至少一方在所述支柱部内被绝缘管包覆。
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