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摘要：公开了在多束装置中观察样本的系统和方法。多束装置可以包括：电子源，被配置为生成初级电子束；预限流孔阵列，包括多个孔并且被配置为从初级电子束形成多个束波，多个束波中的每个小束具有相关联的束电流；聚束器透镜，被配置为准直多个束波中的每个束波；束限制单元，被配置为修改多个束波中的每个束波的相关联的束电流；以及扇区磁体单元，被配置为定向多个束波中的每个束波以在物镜内或至少在物镜附近形成交叉，该物镜被配置为将多个束波中的每个束波聚焦到样本的表面上并且在其上形成多个探测点。
主权项：1.一种用于观察样本的多束装置，包括：电子源，被配置为生成初级电子束；预限流孔阵列，包括多个孔并且被配置为从所述初级电子束形成多个束波，所述多个束波中的每个束波具有相关联的束电流；聚束器透镜，被配置为准直所述多个束波中的每个束波；束限制单元，被配置为修改所述多个束波中的每个束波的所述相关联的束电流；以及扇区磁体单元，被配置为定向所述多个束波中的每个束波以在物镜内或至少在物镜附近形成交叉，所述物镜被配置为将所述多个束波中的每个束波聚焦到所述样本的表面上并且在其上形成多个探测点。
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百度查询： ASML荷兰有限公司 用于多个带电粒子束的装置
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