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摘要：一种在具有纳米结构的模具上制作抗沾黏膜的方法，包括以下步骤a对具有纳米结构的模具施予含氧电浆前处理；及b在设置有模具的反应室内以电浆辅助原子层沉积法于纳米结构表面沉积抗沾黏膜。步骤b依序具有以下次步骤b1令反应室内的模具浸泡于含氧电浆以于纳米结构表面形成悬键；b2清除反应室的含氧电浆；b3令反应室内的模具浸泡于碳数介于3至20的碳硅长链化合物的前驱物中以与悬键反应并产生副产物从而于纳米结构表面生成抗沾黏膜，及b4清除反应室的副产物。次步骤b1早于次步骤b3能使其含氧电浆在该纳米结构的表面所形成的悬键相当于次步骤b3的活性高的反应点，因而增加前驱物的反应活性与生成抗沾黏膜的机率，也利于提升抗沾黏膜的附着性。
主权项：1.一种在具有纳米结构的模具上制作抗沾黏膜的方法，其特征在于：其包含以下步骤：步骤a，对模具施予含氧的电浆前处理，该模具的表面具有纳米结构；及步骤b，于该步骤a后，在设置有该模具的反应室内以电浆辅助原子层沉积法于该纳米结构的表面沉积抗沾黏膜，该步骤b依序具有以下次步骤：次步骤b1，于该反应室引入含氧电浆，令该模具浸泡于该含氧电浆中，以于该纳米结构的表面形成多个悬键，次步骤b2，清除该反应室内的含氧电浆，次步骤b3，于该反应室内引入前驱物，令该模具浸泡于该前驱物中，以与该纳米结构的表面上的悬键进行反应并产生副产物，从而于该纳米结构的表面生成该抗沾黏膜，及次步骤b4，清除该反应室内的副产物；其中，该前驱物是碳数介于3至20间的碳硅长链化合物。
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