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申请/专利权人：广纳四维(广东)光电科技有限公司
申请日：2023-07-27
公开（公告）日：2025-01-28
公开（公告）号：CN119376000A
专利技术分类：.衍射光栅[2006.01]
专利摘要：本发明公开了一种分区光栅的制备方法、衍射光波导和增强现实设备，该制备方法中，提供一衬底；在衬底上涂覆第一光刻胶层；并对其使用第一光遮罩进行曝光形成第一曝光光刻胶层；并对其进行显影，第一曝光光刻胶层形成第一图形化掩膜层，第一曝光光刻胶层至少包括多个曝光部分和多个未曝光部分的第一区域和第二区域，第一区域的第一显影时间大于第二区域的第二显影时间，第一显影时间小于或等于完全显影第一光遮罩未曝光部分或者曝光部分的时间；依据第一图形化掩膜层对衬底刻蚀，并除去第一光刻胶层，形成光栅结构，光栅结构的第一区域的占空比与第二区域的占空比不同。相对比步进光刻或者电子束直写的方式，节省了时间成本和加工成本。
专利权项：1.一种分区光栅的制备方法，其特征在于，包括：提供一衬底；在所述衬底上涂覆第一光刻胶层；对所述第一光刻胶层使用第一光遮罩进行曝光形成第一曝光光刻胶层，其中，所述第一光遮罩的漏光部分的线宽均相同，所述第一光遮罩的遮光部分的线宽均相同；对所述第一曝光光刻胶层进行显影，所述第一曝光光刻胶层形成第一图形化掩膜层，其中，所述第一曝光光刻胶层至少包括第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域均包括多个曝光部分和多个未曝光部分，所述第一区域的第一显影时间大于所述第二区域的第二显影时间；依据所述第一图形化掩膜层对所述衬底刻蚀，并除去第一光刻胶层，形成光栅结构，所述光栅结构的所述第一区域的占空比与所述第二区域的占空比不同。
百度查询： 广纳四维(广东)光电科技有限公司 一种分区光栅的制备方法、衍射光波导和增强现实设备
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