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申请/专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日：2024-12-23
公开（公告）日：2025-02-21
公开（公告）号：CN119491204A
专利技术分类：.以镀覆方法为特征的（C23C16/04优先）[2006.01]
专利摘要：本申请公开了真空阀门、沉积系统及其清洁方法。真空阀门包括气流管道、活动件和线圈。活动件于气流管道内活动设置。线圈绕设于气流管道外周，用于向气流管道内施加交变磁场。通过上述方式，本申请能够减少真空阀门在使用时产生封堵。
专利权项：1.一种真空阀门，其特征在于，包括：气流管道；活动件，所述活动件于所述气流管道内活动设置；线圈，绕设于至少部分所述气流管道外周，用于向所述气流管道内施加交变磁场。
百度查询： 江苏微导纳米科技股份有限公司 真空阀门、沉积系统及其清洁方法
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