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申请/专利权人：夏普株式会社
申请日：2016-02-18
公开（公告）日：2017-10-13
公开（公告）号：CN107250423A
专利技术分类：..真空蒸发[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种蒸镀单元1，包含：蒸镀掩膜10、具有限制板22的限制板单元20及蒸镀源30。蒸镀源30俯视时具有：分别设置在限制板22间的限制板开口23间的用于蒸镀颗粒射出的多个第一开口部31及设置在不与限制限制板开口23相对的位置的至少一个用于泄压的第二开口部32。
专利权项：一种蒸镀单元，使规定图案的蒸镀膜成膜于被成膜基板上，其特征在于，包含：蒸镀源；配置于所述蒸镀源与所述被成膜基板之间的蒸镀掩模；以及配置于所述蒸镀源与所述蒸镀掩模之间的限制板单元；所述限制板单元具有在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时彼此隔开地设置的多片第一限制板；所述蒸镀源具有：多个第一开口部，其在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时分别设置于所述第一限制板间的间隙，用于射出蒸镀颗粒；以及至少一个第二开口部，其设置在与所述间隙不相对的位置，用于泄压。
百度查询： 夏普株式会社 蒸镀单元、蒸镀装置及蒸镀方法
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