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申请/专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日：2017-08-16
公开（公告）日：2017-12-05
公开（公告）号：CN107435136A
专利技术分类：..基座[2006.01]
专利摘要：本发明公布了一种蒸镀腔体，所述蒸镀腔体包括密封腔及位于所述密封腔内的固定装置与蒸镀源装置，所述固定装置包括旋转单元与蒸镀单元，所述蒸镀单元包括至少两个固定位，所述固定位用于固定和贴合基板与掩膜板，所述蒸镀单元转动连接所述旋转单元，所述蒸镀单元用于将所述基板与所述掩膜板转动至面对所述蒸镀源装置，所述固定装置通过所述旋转单元相对所述蒸镀源装置旋转，以使所述蒸镀源装置旋转蒸镀蒸镀源至所述基板。本发明还公布了一种蒸镀设备和蒸镀方法。节约了对位、贴合、分离、传输等步骤的时间，提高了蒸镀节拍，大幅减少持续输出的蒸镀源的闲置时间，提高蒸镀源使用率，降低生产材料成本，设备产出率高。
专利权项：一种蒸镀腔体，其特征在于，所述蒸镀腔体包括密封腔及位于所述密封腔内的固定装置与蒸镀源装置，所述固定装置包括旋转单元与蒸镀单元，所述蒸镀单元包括至少两个固定位，所述固定位用于固定和贴合基板与掩膜板，所述蒸镀单元转动连接所述旋转单元，所述蒸镀单元用于将所述基板与所述掩膜板转动至面对所述蒸镀源装置，所述固定装置通过所述旋转单元相对所述蒸镀源装置旋转，以使所述蒸镀源装置旋转蒸镀蒸镀源至所述基板。
百度查询： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀腔体、蒸镀设备及蒸镀方法
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