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申请/专利权人：中国科学技术大学
申请日：2020-01-23
公开（公告）日：2020-10-27
公开（公告）号：CN211788898U
专利技术分类：.离子枪[2006.01]
专利摘要：一种离子阱，应用于离子阱技术领域，包括：磁场发生装置、光场发生装置和可变电场发生装置，磁场发生装置，用于产生离子所需的约束磁场，光场发生装置，用于产生形状可变的光场，可变电场发生装置，用于通过该光场，利用光伏效应，产生可变约束电场，该可变约束电场的电势分布与该光场分布一致，以通过该约束磁场和该可变约束电场分别操控每个离子，可任意束缚和操控每个离子。
专利权项：1.一种离子阱，其特征在于，包括：磁场发生装置、光场发生装置和可变电场发生装置；磁场发生装置，用于产生约束磁场；光场发生装置，用于产生形状可变的光场；可变电场发生装置，用于通过所述光场，利用光伏效应，产生可变约束电场，所述可变约束电场的电势分布与所述光场分布一致，以通过所述约束磁场和所述可变约束电场分别操控每个离子。
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