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申请/专利权人：新奥科技发展有限公司
申请日：2022-04-28
公开（公告）日：2023-11-07
公开（公告）号：CN117015123A
专利技术分类：
专利摘要：本公开涉及光学工程技术领域，尤其涉及一种光阱装置及光阱系统。该光阱装置，包括：壳体，壳体的一侧设置有光入射口；吸光结构，吸光结构设置在壳体内，且沿光的入射方向，吸光结构呈弯折结构。本公开提供的光阱装置中，由于吸光结构呈弯折结构，光在吸光结构中可进行多次反射。通过光在吸光结构多次反射，增加了光与吸光结构的接触面积，从而有效提高了吸光结构对入射光的吸收率。并且，在光传递过程中，入射角可多次产生变化，由于光多次被反射并吸收，提高吸光结构对入射光的总吸收率，从而提高了光阱装置的光吸收率。同时，通过提高光阱装置的光吸收率，降低了光阱装置的反射率，从而有效减少了杂散光，降低了杂散光对测量产生的影响。
专利权项：1.一种光阱装置，其特征在于，包括：壳体1，所述壳体1的一侧设置有光入射口11；吸光结构2，所述吸光结构2设置在所述壳体1内，且沿光的入射方向，所述吸光结构2呈弯折结构。
百度查询： 新奥科技发展有限公司 光阱装置及光阱系统
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