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申请/专利权人:东和株式会社
申请日:2020-12-21
公开(公告)日:2021-06-25
公开(公告)号:CN113021179A
专利技术分类:...用于单侧研磨[2012.01]
专利摘要:本发明提供一种研削机构及研削装置。本发明在对于研削对象物的粗研削及精研削中使平坦度一定,包括:多个平台2,将板状的研削对象物W加以保持;至少一个粗研削部4,对研削对象物W进行粗研削;以及至少一个精研削部5,对研削对象物W进行精研削;并且在多个平台2的每一个上,粗研削部4及精研削部5构成为能够移动。
专利权项:1.一种研削机构,包括:多个平台,将板状的研削对象物加以保持;至少一个粗研削部,对所述研削对象物进行粗研削;以及至少一个精研削部,对所述研削对象物进行精研削;并且在所述多个平台的每一个上,所述粗研削部及所述精研削部构成为能够移动。
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