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申请/专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日：2021-06-28
公开（公告）日：2021-09-07
公开（公告）号：CN113355636A
专利技术分类：.局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物[2006.01]
专利摘要：本发明公开了一种掩膜结构及掩膜组件，掩膜结构包括：蒸镀掩膜，包括开口区和包围开口区的遮挡区；加强连接部，在蒸镀掩膜厚度方向的一侧表面设置于遮挡区，加强连接部的磁化率大于蒸镀掩膜的磁化率。本发明能够提高蒸镀过程中掩膜组件与显示基板的贴合程度，有效避免因贴合不良导致的蒸镀质量问题。
专利权项：1.一种掩膜结构，用于显示基板的蒸镀，其特征在于，包括：蒸镀掩膜，包括开口区和包围所述开口区的遮挡区；加强连接部，在所述蒸镀掩膜厚度方向的一侧设置于所述遮挡区，所述加强连接部的磁化率大于所述蒸镀掩膜的磁化率。
百度查询： 昆山国显光电有限公司 掩膜结构及掩膜组件
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