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一种涂胶显影用HMDS系统 

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申请/专利权人:芯达半导体设备(苏州)有限公司

摘要:本发明的实施例提供了一种涂胶显影用HMDS系统。所述系统包括用于发生AD反应的腔室,还包括真空管路和发泡管路;所述真空管路与所述腔室的出口连通,用于使所述腔室形成真空状态;所述蒸气管路与所述腔室的进口和出口连通,用于向所述腔室通入HMDS蒸气。本发明的实施例结构简单,体积小巧,安装方便,为AD工艺提供HMDS进行反应。

主权项:1.一种涂胶显影用HMDS系统,包括用于发生AD反应的腔室,其特征在于,还包括真空管路和发泡管路;所述真空管路与所述腔室的出口连通,用于使所述腔室形成真空状态;所述蒸气管路与所述腔室的进口和出口连通,用于向所述腔室通入HMDS蒸气。

全文数据:

权利要求:

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