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一种增强Cu布线层与ABF膜结合力的基板制备方法 

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申请/专利权人:中国电子科技集团公司第五十八研究所

摘要:本发明公开一种增强Cu布线层与ABF膜结合力的基板制备方法,属于集成电路封装领域。在Si载板上涂敷PR胶I后曝光显影,在电镀液I中电镀Cu布线层,去除PR胶I;涂敷PR胶II后曝光显影,在电镀液II中电镀纳米针阵列,去除PR胶II;涂敷PR胶III后曝光显影,在电镀液I中电镀Cu柱,去除PR胶III;加热层压ABF膜后固化,研磨ABF膜至露出Cu柱;重复以上电镀、层压和研磨ABF膜过程直至所需层数;研磨去除Si载板,最后制作焊盘并切割得到封装基板。本发明能在有效提高Cu布线层与ABF膜的结合力的同时改善信号传输趋肤效应,进而改善封装基板的可靠性,节约成本、安全可靠。

主权项:1.一种增强Cu布线层与ABF膜结合力的基板制备方法,其特征在于,包括:在Si载板上涂敷PR胶I后曝光显影,在电镀液I中电镀Cu布线层,去除PR胶I;涂敷PR胶II后曝光显影,在电镀液II中电镀纳米针阵列,去除PR胶II;涂敷PR胶III后曝光显影,在电镀液I中电镀Cu柱,去除PR胶III;加热层压ABF膜后固化,研磨ABF膜至露出Cu柱;重复以上电镀、层压和研磨ABF膜过程直至所需层数;研磨去除Si载板,最后制作焊盘并切割得到封装基板。

全文数据:

权利要求:

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