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摘要：本发明属于涂层技术领域，提供了一种同炉进行氮离子注入及CrAlN涂层镀覆的表面处理方法。结合渗氮技术及物理气相沉积技术的优点，解决了表面渗氮技术制备的膜层较软、耐磨性差等问题，优化了物理气相沉积技术制备的膜层与基体的结合性，大大缩短制备时间，提高了样品的使用寿命。
主权项：1.一种同炉进行氮离子注入及CrAlN涂层镀覆的表面处理方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：将高速钢基片表面处理干净；步骤2：镀膜过程中，在镀膜空间为850mm×φ700mm的立圆柱真空室内进行，真空室内配备8个CrAl合金靶材；步骤3：将高速钢基片装夹在转速为1pm的转架上，开始工艺前，本底真空为5×10-4Pa，沉积温度550℃；真空室内通入Ar+H2混合气，真空控制在0.5-2Pa，在50V-100V偏压条件下轰击20-40min；步骤4：向真空室通入400sccm-600sccmN2和100sccm-300sccmAr+H2混合气，真空控制在0.5-2Pa，在200-300V偏压条件下进行渗氮工艺，时间为90-120min；步骤5：渗氮工艺结束后，再次进行离子清洗过程，真空室通入Ar，真空控制在0.5-2Pa，在60-150V偏压条件下轰击30-50min；步骤6：开启8个CrAl合金靶材，调整电弧离子镀靶电流为100-160A，在40-160V偏压条件下，充入1100sccm-1400sccmN2，镀层时间为60-120min，进行CrAlN涂层的镀覆。
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百度查询： 沈阳乐贝真空技术有限公司 一种同炉进行氮离子注入及CrAlN涂层镀覆的表面处理方法
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