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一种MOSFET版图及MOSFET专利

发布时间:2024-05-29 09:11:47 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 一种MOSFET版图及MOSFET

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申请/专利权人:上海韦尔半导体股份有限公司

申请日:2023-09-14

公开(公告)日:2024-05-24

公开(公告)号:CN221008957U

专利技术分类:.....由绝缘栅产生场效应的[2006.01]

专利摘要:本申请提供了一种MOSFET版图及MOSFET,包括:栅极区、源极区和漏极区,所述源极区设置在漏极区和栅极区的中间位置;所述漏极区包括第一金属层和多个间隔设置的沟槽;所述第一金属层设置在所述沟槽区的上方用于引出漏极;所述栅极区上方设置有第二金属区,所述源极区上方设置有第三金属区,所述栅极区通过第二金属区引出栅极,所述源极区通过第三金属区引出源极。本申请通过在漏极区引入沟槽,沟槽底部穿过整个外延层,到达衬底,进而可以减小导通电阻。

专利权项:1.一种MOSFET版图,其特征在于,包括:栅极区、源极区和漏极区,所述源极区设置在漏极区和栅极区的中间位置;所述漏极区包括第一金属层和多个间隔设置的沟槽;所述第一金属层设置在所述沟槽区的上方用于引出漏极;所述栅极区上方设置有第二金属区,所述源极区上方设置有第三金属区,所述栅极区通过第二金属区引出栅极,所述源极区通过第三金属区引出源极。

百度查询: 上海韦尔半导体股份有限公司 一种MOSFET版图及MOSFET

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