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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
摘要：一种承载装置及晶圆刻蚀设备，承载装置包括：静电吸附盘，静电吸附盘包括底座以及凸立于底座上的支撑柱，支撑柱的顶部用于承载晶圆；磁场补偿部件，设置于底座上方且环绕支撑柱，且磁场补偿部件的环绕方向与底座表面相垂直，在平行于底座表面的方向，磁场补偿部件对等离子产生的力的方向为第二方向，第二方向与第一方向之间具有夹角；绝缘环，环绕包围静电吸附盘以及磁场补偿部件，且绝缘环的内壁位于磁场补偿部件的顶部，支撑柱侧壁、底座的顶部以及绝缘环内壁围成封闭空间，磁场补偿部件设置于封闭空间内。等离子体对刻蚀所产生的图案的侧壁造成损伤的概率大大降低。
主权项：1.一种用于晶圆刻蚀设备的承载装置，所述承载装置用于与顶部感应线圈相配合以实现对晶圆的刻蚀，在平行于所述底座表面的方向，所述顶部感应线圈对等离子体产生的力的方向为第一方向，所述承载装置包括：静电吸附盘，所述静电吸附盘包括底座以及凸立于所述底座上的支撑柱，所述支撑柱的顶部用于承载晶圆；磁场补偿部件，设置于所述底座上方且环绕所述支撑柱，且所述磁场补偿部件的环绕方向与所述底座表面相垂直，在平行于所述底座表面的方向，所述磁场补偿部件对等离子体产生的力的方向为第二方向，所述第二方向与所述第一方向之间具有夹角；绝缘环，环绕包围所述静电吸附盘以及所述磁场补偿部件，且所述绝缘环的内壁位于所述磁场补偿部件的顶部，所述支撑柱侧壁、所述底座的顶部以及所述绝缘环内壁围成封闭空间，所述磁场补偿部件设置于所述封闭空间内。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 承载装置及晶圆刻蚀设备
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