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申请/专利权人:四川省珏源祥半导体技术有限公司
摘要:本发明公开了一种碳化硅半导体生产用的单晶炉,涉及半导体材料生产技术领域,包括单晶炉组件,单晶炉组件内腔周侧侧壁上安装有加热组件,单晶炉组件内腔中安装有盛设组件,单晶炉组件底部安装有用于进行缓冲和减震作用的缓冲减震组件。本发明通过盛设筒、进水管、排水管和连接孔等结构间的配合设置,使用时,通过进水管将清水输送至盛设筒内腔中,使传动管的中间段浸泡在冷水中,对盛设组件的中间段进行降温,并将温度升高后的清水通过排水管排出,采用循环的冷却水对传动管的中间段进行降温,尽量避免了现有单晶炉在通过石墨加热器进行加热时,热量容易沿传动管直接传输至电机上,导致电机温度过高,严重影响电机的使用寿命的问题。
主权项:1.一种碳化硅半导体生产用的单晶炉,包括单晶炉组件1,其特征在于,所述单晶炉组件1内腔周侧侧壁上安装有加热组件2,所述单晶炉组件1内腔中安装有盛设组件3,所述单晶炉组件1底部安装有用于进行缓冲和减震作用的缓冲减震组件4,所述缓冲减震组件4上方的所述盛设组件3上安装有水冷组件5,所述水冷组件5包括盛设筒501,所述盛设筒501内部中空,所述盛设筒501两侧侧壁上均开设有与所述盛设筒501内部相连通的连接孔503,其中一侧的所述连接孔503内部穿设有进水管504,另一侧的所述连接孔503内部穿设有排水管505,所述进水管504和所述排水管505均与所述盛设筒501侧壁固定连接,所述进水管504远离所述盛设筒501的一端与外部进水管道相连通,所述排水管505远离所述盛设筒501的一端与外部排水管道相连通。
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