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摘要:本申请公开了一种悬浮式卷绕磁控阴极轰击蒸发成膜系统,包括磁控阴极、蒸发源、阴极电源及气体供应装置,阳离子源等;所述磁控阴极安装于真空卷绕室与真空蒸镀室隔离部分,磁控阴极正下方安装蒸发源,磁控阴极接电源负极,真空蒸镀室接电源正极,所述磁控阴极下面有柔性基材悬浮通过,蒸发源蒸发镀层材形成的气态粒子向柔性基材表面运动并在柔性基材表面成膜,磁控阴极以形成吸附阳离子的阴极电场和约束阳离子运动的约束磁场,阳离子以高速度撞击到柔性基材表面时,利用阳离子轰击力对蒸发成膜层原子进行轰击,减少膜层中的孔隙和缺陷,轰击力使柔性基材表面镀层更致密,膜层与基材结合牢度更高,提高成膜的整体密实度和成膜质量。
主权项:1.一种悬浮式卷绕磁控阴极轰击蒸发成膜系统,其特征在于,包括磁控阴极、蒸发源、阴极电源,气体供应装置;所述磁控阴极安装于真空卷绕室与真空蒸镀室隔离部分,磁控阴极正下方安装蒸发源,磁控阴极接电源负极,真空蒸镀室接电源正极,所述磁控阴极下面有柔性基材悬浮通过,蒸发源蒸发镀材形成的气态粒子向柔性基材表面运动并在柔性基材表面成膜;磁控阴极能够吸引阳离子朝向柔性基材表面运动,磁控阴极表面形成约束磁场,以捕获阳离子形成轰击区,阳离子轰击到悬浮的柔性基材表面,使柔性基材镀层更致密,提升膜层与基材结合力,使镀膜牢度更高;所述磁控阴极设置一个或多个,以形成正对蒸发源的主轰击区和位于主轰击区前侧和后侧的次轰击区,主轰击区直接正对蒸发源,柔性基材在此区域上形成均匀且致密的镀层,前侧和后侧的次轰击区,对柔性基材进行前处理和后处理,改善镀层的均匀性,提高镀层与基材的结合力。
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