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摘要：本申请公开了一种确保离子入射角度并同时施行图形化的离子轰击方法，包括步骤：将准直器安装于样本托上，使样本位于样本托和准直器之间，将离子源的发射端朝向准直器，准直器上的过滤孔的孔壁与样本表面形成设定夹角，样本在过滤孔的底部形成被轰击区域，通过离子源对被轰击区域进行轰击，离子源发射多个离子，以不同的倾斜角度进入过滤孔内；倾斜角度大于等于设定入射角a的离子和过滤孔的孔壁碰撞，进而损失或失去动能；倾斜角度小于设定入射角a的部分离子穿过过滤孔后直接轰击样本表面，以初始动能对样本表面进行加工。本申请解决了现有技术中选取设定入射角度的离子来轰击样本，存在加工难度大、步骤繁杂及成本高的问题。
主权项：1.一种确保离子入射角度并同时施行图形化的离子轰击方法，其特征在于，包括以下步骤：将样本1放置于样本托2上，然后将准直器3安装于所述样本托2上，使所述样本1位于所述样本托2和所述准直器3之间，将离子源4的发射端朝向所述准直器3，其中，所述准直器3上设置有一个以上的过滤孔5，所述过滤孔5的孔壁与所述样本1表面形成设定夹角，所述样本1在所述过滤孔5的底部形成被轰击区域6，所述离子源4的发射端的延长线平行于所述过滤孔5的孔壁；通过所述离子源4对所述被轰击区域6进行轰击，所述离子源4发射多个离子，多个所述离子以不同的倾斜角度进入所述过滤孔5内；所述倾斜角度大于等于设定入射角a的所述离子和所述过滤孔5的孔壁碰撞，进而损失或失去动能，所述离子对所述样本1表面改造的能力降低或消失；所述倾斜角度小于设定入射角a的部分所述离子穿过所述过滤孔5后直接轰击所述样本1表面，以初始动能对所述样本1表面进行加工；其中，所述设定入射角a＝arctanl÷h，h为过滤孔5的孔深，l为过滤孔5的宽度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 陕西科技大学 一种确保离子入射角度并同时施行图形化的离子轰击方法
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